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技术名称
求：超净高纯试剂技术
技术要求
主要分为MOS级和BV—Ⅲ级两个级别的超净高纯试剂，其中MOS级超净高纯试剂主要用于中小规模集成电路及分立器件的制作，BV—Ⅲ级超净高纯试剂主要用于0.8～1.2μmIC工艺技术的制作。其主要指标如下： ⒈ MOS级超净高纯试剂：⑴ 金属杂质含量：≤500ppb ⑵ 非金属杂质含量
拟供资金
发布日期
2006--0-9-
联系信息
公司名称
昆山化学
公司地址
联 系 人
吴先生
公司电话
0512-57446052
公司传真
联系该信息发布人
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